概述

鑫精诚科技有限公司（以下简称“鑫精诚”）是中国领先的半导体设备制造商，专注于为半导体制造业提供关键设备、材料和解决方案。公司成立于 2003 年，总部位于上海，在全球设有研发中心、生产基地和办事处。

半导体设备技术先驱

鑫精诚是半导体设备领域的技术先驱，拥有业内领先的研发能力和核心技术。公司专注于三大核心技术领域：

刻蚀设备：鑫精诚是全球刻蚀设备市场的主要供应商，拥有先进的等离子刻蚀技术，用于晶圆制造中的关键工艺，如刻蚀和沉积。

薄膜沉积设备：公司在薄膜沉积领域拥有领先地位，提供广泛的设备，涵盖 CVD、PVD 和 ALD 等技术，用于晶圆制造中的薄膜形成和图案化。

热处理设备：鑫精诚的热处理设备包括扩散炉、退火炉和 CVD/PVD 炉，用于晶圆制造中的热处理工艺，如退火、扩散和沉积。

广泛的产品组合

鑫精诚提供广泛的产品组合，涵盖从晶圆制备到封装测试的半导体制造工艺。主要产品包括：

刻蚀设备：等离子体刻蚀机、干法刻蚀机、湿法刻蚀机

薄膜沉积设备：化学气相沉积（CVD）机、物理气相沉积（PVD）机、原子层沉积（ALD）机

热处理设备：扩散炉、退火炉、CVD/PVD 炉

封装设备：封装机、测试机、分选机

强大的制造能力

鑫精诚拥有强大的制造能力，在中国上海、无锡和美国加州设有三个主要生产基地。公司采用先进的制造流程和工艺，确保产品质量和可靠性。鑫精诚还与全球领先的供应商合作，采购关键部件和材料，以保证设备的稳定性和性能。

全球化服务网络

鑫精诚在全球范围内提供全面服务支持，包括设备安装、调试、维护和升级。公司在全球主要半导体制造中心设有服务网点，提供及时有效的技术支持。鑫精诚致力于与客户紧密合作，优化设备性能和提高生产率。

核心竞争力

鑫精诚的核心竞争力包括：

先进的技术：公司专注于研发，不断创新，拥有业内领先的技术优势。

广泛的产品组合：鑫精诚提供广泛的产品组合，满足客户在不同工艺阶段的需求。

强大的制造能力：公司拥有现代化的生产设施，确保产品质量和可靠性。

全球化服务网络：鑫精诚提供全面的服务支持，及时满足客户需求。

市场地位和行业影响

鑫精诚在中国半导体设备市场占据领先地位，并已进入全球市场。公司与全球领先的半导体制造商合作，其设备和解决方案在业内广受认可。鑫精诚为中国半导体产业的发展做出了重要贡献，促进了国内半导体技术的自主创新和产业升级。

美好愿景

鑫精诚的目标是成为全球半导体设备行业的领军企业。公司致力于不断创新，提供卓越的产品和服务，满足客户需求，推动半导体产业的发展。鑫精诚期待成为中国半导体产业崛起的重要力量，为国家科技进步和经济发展贡献力量。